Košík

0422122 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Adámek, Petr - Gregora, Ivan
Investigation of reactive HiPIMS + MF sputtering of TiO₂ crystalline thin films.
Surface and Coatings Technology. Roč. 232, OCT (2013), s. 376-383. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT LH12045; GA ČR GAP108/12/1941; GA MŠMT LD12002; GA ČR GAP108/12/2104; GA MŠMT LH12043
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * mid-frequency * ion velocity distribution function * TiO₂ * rutile
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.199, rok: 2013
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897213004829
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0228323