Košík

0421056 - ÚJF 2014 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hernandez, G. M. - Cruz, S. A. - Quintero, R. - Arellano, H. G. - Fink, Dietmar - Alfonta, L. - Mandabi, Y. - Kiv, A. - Vacík, Jiří
Coupled chemical reactions in dynamic nanometric confinement: Ag2O membrane formation during ion track etching.
Radiation Effects and Defects in Solids. Roč. 168, č. 9 (2013), s. 675-695. ISSN 1042-0150. E-ISSN 1029-4953
Institucionální podpora: RVO:61389005
Klíčová slova: track * polymers * etching * chemistry * ions * nanostructure
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.603, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0227510