Košík

0382104 - FZÚ 2013 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Remsa, J. - Mikšovský, Jan - Jelínek, Miroslav
PLD and RF discharge combination used for preparation of photocatalytic TiO₂ layers.
Applied Surface Science. Roč. 258, č. 23 (2012), s. 9333-9336. ISSN 0169-4332. E-ISSN 1873-5584
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: pulsed laser deposition * titanium dioxide, * photocatalysis, * RF discharge * thin films
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.112, rok: 2012
http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.02.042
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007182