Košík

0373839 - FZÚ 2012 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Bogdanowicz, R. - Drache, S. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M. - Hippler, R.
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges.
European Physical Journal D. Roč. 64, 2-3 (2011), 427-435. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GP202/09/P159; GA AV ČR KAN301370701; GA MŠMT(CZ) 1M06002
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100100915
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: dual magnetron * Ti-Cu film * HiPIMS * diagnostics * ion energy
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.476, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0206899