Košík

0088756 - ÚVGZ 2008 RIV RO eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Tichý, M. - Kříha, V. - Scholtz, V. - Šerá, Božena - Špatenka, P.
Technological applications of sulfatron produced discharge.
[Technologické aplikace sulfatronu.]
Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. Roč. 9, č. 4 (2007), s. 852-857. ISSN 1454-4164. E-ISSN 1841-7132
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z60870520
Klíčová slova: plasma * application * stimulation germination
Kód oboru RIV: EH - Ekologie - společenstva
Impakt faktor: 0.827, rok: 2007
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0004231