Košík

  1. 1.
    0560196 - ÚFP 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Adamovich, I. - Agarwal, S. - Ahedo, E. - Alves, L. L. - Baalrud, S. - Babaeva, N. - Bogaerts, A. - Bourdon, A. - Bruggeman, P.J. - Canal, C. - Choi, E. H. - Coulombe, S. - Donkó, B. - Graves, D.B. - Hamaguchi, S. - Hegemann, D. - Hori, M. - Kim, H. H. - Kroesen, G. M.W. - Kushner, M.J. - Laricchiuta, P. - Li, X. - Magini, A. G. - Mededovic Thagard, S. - Miller, V. - Murphy, A.B. - Oehrlein, G. S. - Puac, N. - Sankaran, R. M. - Samukawa, S. - Shiratani, M. - Šimek, Milan - Tarasenko, N. - Terashima, K. - Thomas, E. - Trieschmann, J. - Tsikata, S. - Turner, M. M. - van der Walt, I.J. - van de Sanden, MCM. - von Woedtke, T.
    The 2022 Plasma Roadmap: low temperature plasma science and technology.
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 55, č. 37 (2022), č. článku 373001. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA18-04676S
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: low temperature plasma * plasma applications * plasma diagnostics * plasma material processing * plasma modeling * plasma science and technology * roadmap
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.4, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ac5e1c
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333203
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.