Košík

0462412 - ÚFCH JH 2017 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
da Costa, Sara - Ek Weis, Johan - Frank, Otakar - Fridrichová, Michaela - Kalbáč, Martin
Monitoring the doping of graphene on SiO2/Si substrates during the thermal annealing process.
RSC Advances. Roč. 6, JUL 2016 (2016), s. 72859-72864. E-ISSN 2046-2069
Grant CEP: GA MŠMT LL1301
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: heating * graphene * Raman spectroscopy
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 3.108, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261877