Košík

0438450 - FZÚ 2015 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Rebl, H. - Zietz, C. - Arndt, K. - Bogdanowicz, R. - Nebe, B. - Bader, R. - Podbielski, A. - Hubička, Zdeněk - Hippler, R.
Deposition of thin titanium-copper films with antimicrobial effect by advanced magnetron sputtering methods.
Materials Science & Engineering C-Materials for Biological Applications. Roč. 31, č. 7 (2011), s. 1512-1519. ISSN 0928-4931. E-ISSN 1873-0191
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA MŠMT(CZ) 1M06002
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
Klíčová slova: implant coating * titanium-copper film * pulsed magnetron sputtering
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.686, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241858