Košík

0427030 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Kšírová, Petra - Zietz, C. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Bader, R. - Tichý, M. - Helm, Ch.A. - Hippler, R.
Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti–Cu films with controlledcopper release.
Thin Solid Films. Roč. 550, JAN (2014), s. 389-3947. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: titanium, * copper * thin films * Ti–Cu films * high power impulse magnetron sputtering * X-ray diffraction
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.759, rok: 2014
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013018166
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232643