Košík

0393045 - FZÚ 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Wulff, H. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Deposition of rutile (TiO₂) with preferred orientation by assisted high power impulse magnetron sputtering.
Surface and Coatings Technology. Roč. 222, MAY (2013), s. 112-117. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA MŠMT LD12002
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * ECWR * TiO₂ * Rutile * Anatase * IDF
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.199, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0221796