Košík

  1. 1.
    0393045 - FZÚ 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Wulff, H. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
    Deposition of rutile (TiO2) with preferred orientation by assisted high power impulse magnetron sputtering.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 222, MAY (2013), s. 112-117. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA MŠMT LD12002
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HiPIMS * ECWR * TiO2 * Rutile * Anatase * IDF
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 2.199, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0221796
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.