Košík

0377251 - FZÚ 2013 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Highly ionized physical vapor deposition plasma source working at very low pressure.
Applied Physics Letters. Roč. 100, č. 14 (2012), "141604-1"-"141604-3". ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GAP108/12/1941
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetron * ECWR * low-pressure * sputtering * plasma diagnostics
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 3.794, rok: 2012
http://dx.doi.org/10.1063/1.3699229
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0209459