Košík

0377074 - FZÚ 2013 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Drache, S. - Bogdanowicz, R. - Wulff, H. - Herrendorf, A.-P. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M. - Hippler, R.
Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering.
Surface and Coatings Technology. Roč. 206, 11-12 (2012), s. 2801-2809. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
Grant ostatní: MŠMT(CZ) CZ.1.05/2.1.00/03.0058
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: dual magnetron * HiPIMS * MF discharge * Ti-Cu films * IVDF * XRD
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.941, rok: 2012
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0209328