Košík

0374521 - ÚJF 2012 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Černý, F. - Konvičková, S. - Jech, V. - Hnatowicz, Vladimír
Simple Mathematical Models of High Energy Ion Beam Assisted Deposition Concentration Profiles in Binary Thin Films.
Journal of Nanoscience and Nanotechnology. Roč. 11, č. 10 (2011), s. 8936-8942. ISSN 1533-4880
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06041
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: SILICON-NITRIDE FILMS * ENHANCED DEPOSITION * IBAD-PROCESS
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 1.563, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0207426