Košík

0341952 - FZÚ 2010 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Honda, Shinya - Mates, Tomáš - Rezek, Bohuslav - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan
Microscopic study of the H₂O vapor treatment of the silicon grain boundaries.
[Mikroskopická studie ošetřování hranic zrn v křemíku vodní parou.]
Journal of Non-Crystalline Solids. Roč. 354, č. 19-25 (2008), s. 2310-2313. ISSN 0022-3093. E-ISSN 1873-4812
Grant CEP: GA MŽP(CZ) SN/3/172/05
Klíčová slova: polycrystalline silicon films * H₂O vapor treatment * potential * crystalline disorder * stress * defects * passivation
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.449, rok: 2008
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0184791