Košík

0100164 - FZU-D 20040144 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Potůček, Zdeněk - Ptáček, Pavel - Šíchová, H. - Málková, Zuzana - Jastrabík, Lubomír - Trunda, Bohumil
Low pressure deposition Li_xZn_yO thin films by means of RF plasma jet system.
[Nízkotlaká depozice Li_xZn_yO tenkých vrstev pomocí vysokofrekvenčního tryskové plazmového zdroje.]
Thin Solid Films. 447-448, - (2004), s. 656-662. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA AV ČR KSK2043105
Klíčová slova: photoluminescence * emission spectroscopy * chemical composition * plasma jet * thin films * RF hollow cathode
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.647, rok: 2004
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007669