Košík

0099989 - ÚFM 2008 RIV JP eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Zajíčková, L. - Kučerová, Z. - Franta, D. - Buršíková, V. - Buršík, Jiří - Sťahel, P. - Klapetek, P.
Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers.
[Plazmochemická depozice vrstev z hexametyldisiloxanu a oktametyltetrasiloxanu.]
18th International Symposium on Plasma Chemistry. Kyoto: Kyoto University, 2007, s. 459-459. ISBN 978-4-9903773-2-8.
[International Symposium on Plasma Chemistry /18./. Kyoto (JP), 26.08.2007-31.08.2007]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20410507
Klíčová slova: PECVD * HMDSO * OMCTS
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0158429