0086335 - FZÚ 2008 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Juha, Libor - Hájková, Věra - Chalupský, Jaromír - Vorlíček, Vladimír - Ritucci, A. - Reale, A. - Zuppella, P. - Störmer, M.Capillary-discharge 46.9-nm laser-induced damage to a-C thin films exposed to multiple laser shots below single-shot damage threshold.
[Poškození amorfního uhlíku zářením XUV laseru (46,9 nm) mnoha pulzy pod prahem poškození jedním impulzem.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics. Bellingham: SPIE, 2007 - (Juha, L.; Sobierajski, R.; Wabnitz, H.), s. 1-7. Proceedings of SPIE, 6586. ISBN 978-0-8194-6714-0.
[International Conference on Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics. Prague (CZ), 18.04.2007-19.04.2007]
Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA AV ČR KAN300100702; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: radiation damage * amorphous carbon * XUV radiation * capillary-discharge laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0148625
