Košík

0045523 - ÚJF 2007 NL eng A - Abstrakt
Houška, J. - Vlček, J. - Potocký, Š. - Peřina, Vratislav
Influence of substrate bias voltage on structure and properties of hard Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering.
[Vliv předpětí substrátu na strukturu a vlastnosti tvrdých Si-B-C-N vrstev připravených reaktivním magnetronovým rozprašováním.]
Diamond and Related Materials. Elsevier. Roč. 16, - (2006), s. 29-36. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: nitrogen films * magnetron co-sputtering * elemental composition
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0138018