Košík

0041425 - FZÚ 2007 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
Gordijn, A. - Vaněček, Milan - Goedheer, W.J. - Rath, J.K. - Schropp, R.E.I.
Influence of pressure and plasma potential on high growth rate microcrystalline silicon grown by very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition.
[Vliv tlaku a poteciálu plasmatu na rychlost růstu mikrokrystalického křemíku, připraveného ve vysokofrekvenčním plasmatu.]
Japanese Journal of Applied Physics. Roč. 45, 8A (2006), s. 6166-6172. ISSN 0021-4922. E-ISSN 1347-4065
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: solar cells * microcrystalline silicon * plasma
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.222, rok: 2006
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0134895