Košík

0027752 - ÚFP 2006 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
Weinzettl, Vladimír - Piffl, Vojtěch - Matějíček, Jiří - Dufková, Edita - Zajac, Jaromír - Dejarnac, Renaud - Peřina, Vratislav
THE EFFECT OF THE USE OF DIFFERENT ELECTRODE MATERIALS FOR EDGE-PLASMA BIASING ON PLASMA DENSITY AND FLOATING POTENTIAL MODIFICATIONS.
[Vliv použití různých materiálů elektrody pro nabíjení okrajového plazmatu na změny hustoty plazmatu a plovoucího potenciálu.]
Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 55, č. 12 (2005), s. 1607-1614. ISSN 0011-4626.
[Electric Fields, Structures and Relaxation in Edge Plasmas,. Tarragona, 3.7.2005-4.7.2005]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20430508
Klíčová slova: biasing * edge plasma * plasma-facing materials
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 0.360, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0003258