Počet záznamů: 1
Deposition of oxide nanostructures by nanosecond laser ablation of silicon in an oxygen-containing background gas
- 1.
SYSNO 0561204 Název Deposition of oxide nanostructures by nanosecond laser ablation of silicon in an oxygen-containing background gas Tvůrce(i) Rodionov, A.A. (RU)
Starinskiy, S.V. (RU)
Shukhov, Y.G. (RU)
Bulgakov, Alexander (FZU-D) ORCIDZdroj.dok. Thermophysics and Aeromechanics. Roč. 28, č. 4 (2021), s. 549-554 Druh dok. Článek v odborném periodiku Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. RU Klíč.slova pulsed laser deposition * thin films * non-stoichiometric silicon oxide * laser ablation in background gas URL https://doi.org/10.1134/S0869864321040089 Trvalý link https://hdl.handle.net/11104/0333878
Počet záznamů: 1