Počet záznamů: 1
Surface stoichiometry and depth profile of Ti.sub.x./sub.-Cu.sub.y./sub.N.sub.z./sub. thin films deposited by magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0552187 Název Surface stoichiometry and depth profile of Tix-CuyNz thin films deposited by magnetron sputtering Tvůrce(i) Mukhopadhyay, A.K. (IN)
Roy, A. (IN)
Bhattacharjee, G. (IN)
Das, S.C. (IN)
Majumdar, A. (IN)
Wulff, H. (DE)
Hippler, Rainer (FZU-D) ORCIDKorespondující/senior Hippler, Rainer - Korespondující autor Zdroj.dok. Materials. Roč. 14, č. 12 (2021). - : MDPI Číslo článku 3191 Druh dok. Článek v odborném periodiku Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova magnetron sputtering * Ti-Cu-N coating * N incorporation * X-ray photoelectron spectroscopy * X-ray diffraction * transmission electron microscopy URL http://hdl.handle.net/11104/0327392 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0327392 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552187.pdf 2 5.6 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1