Počet záznamů: 1
Litografická maska
- 1.
SYSNO 0544061 Název Litografická maska Překlad názvu Lithographic mask Tvůrce(i) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Burda, Daniel (UPT-D)
Ondříšková, Martina (UPT-D)
Lalinský, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horodyský, P. (CZ)Vyd. údaje 2021 Poddruh Funkční vzorek Int.kód APL-2021-03 Technické parametry Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy. Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Číselná identifikace APL-2021-03 Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova electron beam lithography * photomask Spolupracující instituce CRYTUR s.r.o. (Česká republika) Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0321117
Počet záznamů: 1