Počet záznamů: 1
Nanostructuring of PMMA, GaAs, SiC and Si samples by focused XUV laser beam
- 1.
SYSNO 0538597 Název Nanostructuring of PMMA, GaAs, SiC and Si samples by focused XUV laser beam Tvůrce(i) Frolov, Oleksandr (UFP-V) [IPS] RID
Koláček, Karel (UFP-V) [IPS] RID
Schmidt, Jiří (UFP-V) [IPS] RID
Štraus, Jaroslav (UFP-V) [IPS] RID
Choukourov, A. (CZ)Korespondující/senior Frolov, Oleksandr - Korespondující autor Zdroj.dok. Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-ray Radiation VII. Roč. 11035 (2019). - Bellingham : SPIE, 2019 / Juha L. ; Bajt S. ; Guizard S. Konference Conference on Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-Ray Radiation VII, 01.04.2019 - 03.04.2019, Praha Číslo článku 110350K Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant LTT17015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UFP-V - RVO:61389021 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova Ablation * Diffraction pattern * Nanopatterning * Nanostructuring * XUV laser Spolupracující instituce Charles University (Česká republika) URL https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/11035/110350K/Nanostructuring-of-PMMA-GaAs-SiC-and-Si-samples-by-focused/10.1117/12.2521444.short?SSO=1 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0316374
Počet záznamů: 1