Počet záznamů: 1
Advances in chemical lift-off lithography
- 1.
SYSNO 0535135 Název Advances in chemical lift-off lithography Tvůrce(i) Cheung, K. (US)
Goronzy, D. P. (US)
Stemer, D. (US)
Zhao, CH. (US)
Young, T. (US)
Belling, J. (US)
Baše, Tomáš (UACH-T) RID, SAI, ORCID
Andrews, A. (US)
Weiss, P. (US)Zdroj.dok. Abstracts of papers - American Chemical Society. Roč. 258, AUG (2019) Konference ACS Fall National Meeting and Exposition, 25.08.2019 - 29.08.2019, San Diego Číslo článku 277-ANYL Druh dok. Abstrakt Institucionální podpora UACH-T - RVO:61388980 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova lift-off lithography Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0313227
Počet záznamů: 1