Počet záznamů: 1
Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H.sub.2./sub.S gas mixture
- 1.
SYSNO 0533973 Název Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kapran, Anna (FZU-D) ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Zanáška, Michal (FZU-D) ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)Korespondující/senior Hubička, Zdeněk - Korespondující autor Zdroj.dok. Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-17. - : MDPI Číslo článku 246 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - země EU EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika GA19-00579S GA ČR - Grantová agentura ČR FV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova HiPIMS * Langmuir probe * optical emission spectrometry * time-resolved probe measurements * H2S * electron density * electron temperature URL http://hdl.handle.net/11104/0312196 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0312196 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0533973.pdf 0 4 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1