Transferless Inverted graphene/silicon heterostructures prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon on CVD graphene

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0531897
Název	Transferless Inverted graphene/silicon heterostructures prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon on CVD graphene
Tvůrce(i)	Müller, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID} Bouša, Milan (UFCH-W)_{RID, ORCID} Hájková, Zdeňka (FZU-D)_{RID, ORCID} Ledinský, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Fejfar, Antonín (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Drogowska-Horna, Karolina A. (UFCH-W) Kalbáč, Martin (UFCH-W)_{RID, ORCID} Frank, Otakar (UFCH-W)_{RID, ORCID}
Korespondující/senior	Frank, Otakar - Korespondující autor
Zdroj.dok.	Nanomaterials. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-10. - : MDPI
Číslo článku	589
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382
	EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	GA17-18702S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	EF16_013/0001821 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271 ; UFCH-W - RVO:61388955
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CH
Klíč.slova	silicon * graphene * heterostructure * CDV
URL	http://hdl.handle.net/11104/0310529
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0310529

	Název souboru	Staženo	Velikost	Komentář	Verze	Přístup
	0531897.pdf	1	1.9 MB	CC licence	Vydavatelský postprint	povolen

Počet záznamů: 1