Počet záznamů: 1
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system
- 1.
SYSNO 0531792 Název Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zlámal, M. (CZ)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Krýsa, J. (CZ)Korespondující/senior Hubička, Zdeněk - Korespondující autor Zdroj.dok. Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14. - : MDPI Číslo článku 232 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - země EU EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika FV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu GA17-20008S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova photocathode film * r-HiPIMS plus ECWR plasma * r-HiPIMS plasma * copper iron oxide * photocurrent URL http://hdl.handle.net/11104/0310408 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0310408 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0531792.pdf 0 3.6 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1