Počet záznamů: 1  

Laser and ion beams graphene oxide reduction for microelectronic devices

  1. 1.
    SYSNO0523925
    NázevLaser and ion beams graphene oxide reduction for microelectronic devices
    Tvůrce(i) Torrisi, L. (IT)
    Havránek, Vladimír (UJF-V) [ONF] RID, SAI, ORCID
    Torrisi, Alfio (UJF-V) [ONF] RID, ORCID
    Cutroneo, Mariapompea (UJF-V) [ONF] ORCID, RID, SAI
    Silipigni, L. (IT)
    Zdroj.dok. Radiation Effects and Defects in Solids. Roč. 175, 3-4 (2020), s. 226-240. - : Taylor & Francis
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA19-02482S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.GB
    Klíč.slova Graphene oxide * ion beam reduction * lithography * laser * ion beam * electronic device
    URLhttps://doi.org/10.1080/10420150.2019.1701456
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0308215
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.