Počet záznamů: 1

Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P

SYSNO	0523531
Název	Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Překlad názvu	Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon
Tvůrce(i)	Mrázek, Jan (URE-Y)_{RID, ORCID}
Vyd. údaje	2019
Vlastník	Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Datum udělení vzoru	30.09.2019
Číslo vzoru	33261
Druh vzoru	U - Užitný vzor
Kategorie vzoru	E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
Kód vydavatele patentu	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Druh dok.	Užitný a průmyslový vzor
Grant	FV30151 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	URE-Y - RVO:67985882
Jazyk dok.	cze
Klíč.slova	semiconductor * boron * colloid
URL	http://hdl.handle.net/11104/0307887
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0307887

	Název souboru	Staženo	Velikost	Komentář	Verze	Přístup
	UFE 0523531.pdf	4	127.7 KB		Vydavatelský postprint	povolen

Počet záznamů: 1