Počet záznamů: 1
Characterization of graphene oxide film by implantation of low energy copper ions
- 1.
SYSNO 0520862 Název Characterization of graphene oxide film by implantation of low energy copper ions Tvůrce(i) Cutroneo, Mariapompea (UJF-V) [ONF] ORCID, RID, SAI
Torrisi, L. (IT)
Havránek, Vladimír (UJF-V) [ONF] RID, SAI, ORCID
Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Malinský, Petr (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Torrisi, Alfio (UJF-V) [ONF] RID, ORCID
Stammers, James H. (UJF-V) [ONF]
Sofer, Z. (CZ)
Silipigni, L. (IT)
Fazio, B. (IT)
Fazio, M. (IT)
Bottger, R. (DE)Zdroj.dok. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 460, č. 12 (2019), s. 169-174. - : Elsevier Konference 28th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS) / 10th International Symposium on Swift Heavy Ions in Matter (SHIM), 01.07.2018 - 07.07.2018, Caen Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA16-05167S GA ČR - Grantová agentura ČR EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova low energy copper ions * ion implantation * composition graphene oxide Spolupracující instituce Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem (Česká republika)
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze (Česká republika)URL https://doi.org/10.1016/j.nimb.2019.03.021 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0305518
Počet záznamů: 1