Počet záznamů: 1
Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0512095 Název Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zlámal, M. (CZ)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Krysa, J. (CZ)Korespondující/senior Hubička, Zdeněk - Korespondující autor Zdroj.dok. Catalysis Today. Roč. 328, May (2019), s. 29-34. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA17-20008S GA ČR - Grantová agentura ČR CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - země EU EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova high power impulse magnetron sputtering * reactive sputtering * magnetron discharge * photocathode * photocurrent * copper oxide URL https://doi.org/10.1016/j.cattod.2018.11.034 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0302301
Počet záznamů: 1