Počet záznamů: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
- 1.
SYSNO 0499948 Název Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy Překlad názvu Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCIDVyd. údaje 2018 Poddruh Funkční vzorek Int.kód FVG1/FZU/2018 Technické parametry Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole Ekonomické parametry Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Oddělení optických a biofyzikálních systémů Číselná identifikace FVG1/FZU/2018 Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant FV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0292132
Počet záznamů: 1