Počet záznamů: 1  

Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu

  1. 1.
    SYSNO0496767
    NázevAparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu
    Překlad názvuApparatus for detecting of particles in coated resist layer
    Tvůrce(i) Drozd, Michal (UPT-D)
    Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Pavelka, Jan (UPT-D) RID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Vyd. údaje2018
    PoddruhFunkční vzorek
    Int.kódAPL-2018-05
    Technické parametryJedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
    Ekonomické parametryFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
    Název vlastníkaÚstav přístrojové techniky AV Ř, v. v. i.
    Číselná identifikaceAPL-2018-05
    Druh dok.Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova e–beam lithography * quality control * image processing
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0289410
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.