Počet záznamů: 1
Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil
- 1.
SYSNO 0495721 Název Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil Tvůrce(i) Cutroneo, Mariapompea (UJF-V) [ONF] ORCID, RID, SAI
Havránek, Vladimír (UJF-V) [ONF] RID, SAI, ORCID
Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Malinský, Petr (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Torrisi, L. (IT)
Perez-Hernandez, J. A. (ES)
Roso, L. (ES)
Luxa, J. (CZ)
Sofer, Z. (CZ)
Bottger, R. (DE)Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings, 17th International Conference on Ion Sources, 2011. - Melville : AIP Publishing, 2018 Konference 17th International Conference on Ion Sources, 15.09.2017 - 20.09.2017, Geneva Číslo článku 090007 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA16-05167S GA ČR - Grantová agentura ČR EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova graphene oxide foil * ion beam lithography * deoxygenation Spolupracující instituce Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem (Česká republika)
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze (Česká republika)Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0288651
Počet záznamů: 1