Počet záznamů: 1
Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films
- 1.
SYSNO 0485935 Název Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Straňák, V. (CZ)
Klusoň, J. (CZ)
Tichý, M. (CZ)
Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. XIXth Symposium on Physics of Switching Arc. S. 47-56. - Brno : Brno University of Technology, 2011 / Aubrecht V. Konference XIXth Symposium on Physics of Switching Arc, 05.09.2011 - 11.09.2011, Brno Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant GAP205/11/0386 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858 CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. CZ Klíč.slova plasma jet * TiO2 thin film * photocatalytic * XRD * IVDF * RFA Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0280850
Počet záznamů: 1