Počet záznamů: 1
Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent
- 1.
SYSNO 0485925 Název Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent Překlad názvu Plasmatic system for coatings of hollow substrates Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Klinger, Miloslav (FZU-D) ORCIDVyd. údaje 2017 Poddruh Funkční vzorek Int.kód FVG1/FZU/2017 Technické parametry Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm. Ekonomické parametry Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TG02010056 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0280842
Počet záznamů: 1