FeS.sub.2./sub. thin films deposition by reactive high power magnetron sputtering in Ar+H.sub.2./sub.S gas mixture

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0464298
Název	FeS₂ thin films deposition by reactive high power magnetron sputtering in Ar+H₂S gas mixture
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	International Conference on Plasma Surface Engineering. Abstracts. ( PSE 2016 ) /15./. S. 137-137. - Braunschweig : European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering (EJC / PISE), 2016
Konference	International Conference on Plasma Surface Engineering ( PSE 2016 ), 12.09.2016 - 16.09.2016, Garmisch-Partenkirchen
Druh dok.	Abstrakt
Grant	TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	DE
Klíč.slova	sputtering * HIPIMS * films * semiconductor * deposition
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0268994

Počet záznamů: 1