Počet záznamů: 1  

Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace

  1. 1.
    SYSNO0459337
    NázevZdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace
    Překlad názvuLow-temperature plasma source with possibility of contact as well as contactless application
    Tvůrce(i) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Zablotskyy, Vitaliy A. (FZU-D) RID
    Syková, Eva (UEM-P) RID
    Kubinová, Šárka (FZU-D) RID, ORCID
    Vyd. údaje2016
    VlastníkFyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v. v. i.
    Datum udělení vzoru16.02.2016
    Číslo vzoru29159
    Druh vzoruU - Užitný vzor
    Kategorie vzoruE - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
    Kód vydavatele patentuCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Druh dok.Užitný a průmyslový vzor
    Grant TA04010449 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041
    Jazyk dok.cze
    Klíč.slova low-temperature plasma * possibility of contact as well as contactless application
    URL https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029159.pdf
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0259545
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.