Ionization of sputtered Ti, Al, and C coupled with plasma characterization in HiPIMS

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0449520
Název	Ionization of sputtered Ti, Al, and C coupled with plasma characterization in HiPIMS
Tvůrce(i)	Lundin, D. (FR) Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Plasma Sources Science & Technology. Roč. 24, č. 3 (2015), s. 035018. - : Institute of Physics Publishing
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	608800, XE - země EU
	LH12043 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	GB
Klíč.slova	IPVD * HiPIMS * HPPMS * Langmuir probe * ion meter
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0251068

Počet záznamů: 1