Počet záznamů: 1  

Multi-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films

  1. 1.
    SYSNO0438735
    NázevMulti-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films
    Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok. IEEE Transactions on Plasma Science. Roč. 42, č. 10 (2014), s. 2502-2503. - : Institute of Electrical and Electronics Engineers
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    LH12045 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    M100101215, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.US
    Klíč.slova nuclear and plasma sciences * plasma applications * plasma devices * plasmas
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0242111
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.