Počet záznamů: 1

Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami

SYSNO	0434553
Název	Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
Překlad názvu	Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings
Tvůrce(i)	Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Urbánek, Michal (UPT-D)_RID Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Šerý, Mojmír (UPT-D)_{RID, SAI} Mikel, Břetislav (UPT-D)_{RID, SAI}
Zdroj.dok.	Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. S. 31-32. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014
Konference	Laser54, Třešť, 29.10.2014-31.10.2014
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Jazyk dok.	cze
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	electron beam lithography * industrial holography
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0238707

Počet záznamů: 1