Počet záznamů: 1

Mask-free surface structuring of micro- and nanocrystalline diamond films by reactive ion plasma etching

SYSNO	0432632
Název	Mask-free surface structuring of micro- and nanocrystalline diamond films by reactive ion plasma etching
Tvůrce(i)	Domonkos, Mária (FZU-D)_RID Ižák, Tibor (FZU-D)_RID Babchenko, Oleg (FZU-D)_{RID, ORCID} Varga, Marián (FZU-D)_{RID, ORCID} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 6, č. 7 (2014), s. 780-784
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	GAP108/12/0910 GA ČR - Grantová agentura ČR
	GAP108/12/0996 GA ČR - Grantová agentura ČR
	FR-TI2/736 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	micro- and nanocrystalline diamond * capacitively coupled plasma * reactive ion etching * nanostructuring * scanning electron microscopy
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0237011

Počet záznamů: 1