Počet záznamů: 1
Mask-free surface structuring of micro- and nanocrystalline diamond films by reactive ion plasma etching
- 1.
SYSNO 0432632 Název Mask-free surface structuring of micro- and nanocrystalline diamond films by reactive ion plasma etching Tvůrce(i) Domonkos, Mária (FZU-D) RID
Ižák, Tibor (FZU-D) RID
Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
Varga, Marián (FZU-D) RID, ORCID
Hruška, Karel (FZU-D) RID, ORCID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 6, č. 7 (2014), s. 780-784 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GAP108/12/0910 GA ČR - Grantová agentura ČR GAP108/12/0996 GA ČR - Grantová agentura ČR FR-TI2/736 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova micro- and nanocrystalline diamond * capacitively coupled plasma * reactive ion etching * nanostructuring * scanning electron microscopy Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0237011
Počet záznamů: 1