Počet záznamů: 1  

SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci

  1. 1.
    SYSNO0426257
    NázevSMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
    Překlad názvuSMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization
    Tvůrce(i) Jákl, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
    Zemánek, Pavel (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Vyd. údajeBrno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013
    Druh dok.Výzkumná zpráva
    Grantneveřejné zdroje
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova holography * laser beam shaping * polymerization
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0232033
     
Počet záznamů: 1