Deposition of hematite Fe.sub.2./sub.O.sub.3./sub. thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0423298
Název	Deposition of hematite Fe₂O₃ thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kubart, T. (SE) Brunclíková, Michaela (FZU-D)_RID Kšírová, Petra (FZU-D)_{RID, ORCID} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Remeš, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Thin Solid Films. Roč. 549, Dec (2013), s. 184-191. - : Elsevier
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	GAP108/12/2104 GA ČR - Grantová agentura ČR
	LH12043 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	M100101215, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CH
Klíč.slova	HIPIMS * thin films * hollow cathode
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0229416

Počet záznamů: 1