Počet záznamů: 1
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges
- 1.
SYSNO 0373839 Název Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges Tvůrce(i) Straňák, V. (DE)
Wulff, H. (DE)
Bogdanowicz, R. (DE)
Drache, S. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tichý, M. (CZ)
Hippler, R. (DE)Zdroj.dok. European Physical Journal D. Roč. 64, 2-3 (2011), 427-435. - : Springer Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GAP205/11/0386 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika GP202/09/P159 GA ČR - Grantová agentura ČR KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika M100100915 , CZ - Česká republika CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. DE Klíč.slova dual magnetron * Ti-Cu film * HiPIMS * diagnostics * ion energy Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0206899
Počet záznamů: 1