Počet záznamů: 1
Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system
- 1.
SYSNO 0358552 Název Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tichý, M. (CZ)Zdroj.dok. Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 12 (2010), s. 1-7. - : Institute of Physics Publishing Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd GP202/09/P159 GA ČR - Grantová agentura ČR M100100915, CZ - Česká republika GA202/09/0800 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova plasma * pulsed DC * ion flux * hollow cathode URL http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0196554
Počet záznamů: 1