Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0355161
Název	Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth
Tvůrce(i)	Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Babchenko, Oleg (FZU-D)_{RID, ORCID} Rezek, Bohuslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Purkrt, A. (CZ) Remeš, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III. S. 137-143. - Warrendale, PA : Materials Research Society, 2010 / Bergonzo P. ; Butler J.E. ; Jackman R.B. ; Loh K.P. ; Nesladek M.
Konference	MRS Fall Meeting 2009, Boston, 30.11.2009-04.12.2009
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	IAAX00100902 GA AV ČR - Akademie věd, CZ - Česká republika
	KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
	KAN400480701 GA AV ČR - Akademie věd, CZ - Česká republika
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	diamond * plasma-enhanced CVD (PECVD) (deposition) * microstructure
URL	http://dx.doi.org/10.1557/PROC-1203-J17-53
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0193993

Počet záznamů: 1