Počet záznamů: 1
Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth
- 1.
SYSNO 0355161 Název Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth Tvůrce(i) Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
Hruška, Karel (FZU-D) RID, ORCID
Purkrt, A. (CZ)
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III. S. 137-143. - Warrendale, PA : Materials Research Society, 2010 / Bergonzo P. ; Butler J.E. ; Jackman R.B. ; Loh K.P. ; Nesladek M. Konference MRS Fall Meeting 2009, Boston, 30.11.2009-04.12.2009 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAAX00100902 GA AV ČR - Akademie věd, CZ - Česká republika KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd KAN400480701 GA AV ČR - Akademie věd, CZ - Česká republika CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova diamond * plasma-enhanced CVD (PECVD) (deposition) * microstructure URL http://dx.doi.org/10.1557/PROC-1203-J17-53 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0193993
Počet záznamů: 1