Počet záznamů: 1

The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

SYSNO	0352722
Název	The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Tvůrce(i)	Červenka, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Ledinský, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Stuchlík, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Stuchlíková, The-Ha (FZU-D)_{RID, ORCID} Bakardjieva, Snejana (UACH-T) [CIT]_{SAI, RID, ORCID} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Fejfar, Antonín (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kočka, Jan (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Nanotechnology. Roč. 21, č. 41 (2010), 415604/1-415604/7. - : Institute of Physics Publishing
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	LC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
	LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	240826, XE - země EU
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
	AV0Z40320502 - UACH-T (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	GB
Klíč.slova	nanoneedles * nanowires * silicon * plasma * chemical vapor deposition * crystal structure * growth * phonon * SEM * Raman
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0192169

Počet záznamů: 1